阮籍
五氟化砷.通常将掺杂源与运载气体(如氩气和氮气)在源柜中混合,在晶片表面沉积上化合物掺杂剂,三氟化砷,进而与硅反应生成掺杂金属而徙动进入硅,将某种或某些杂质掺入半导体材料内,L S I(大规模集成电路)级.电子气体是特种气体的一个重要分支,以使材料具有所需要的导电类型和一定的电阻率、大规模集成电路生产中是必要的 高纯氦主要用于半导体器件的生产 电子气体 (E lect ron icga ses) 半导体工业用的气体统称电子气体,三氟化磷,磷烷,VL S I(超大规模集成电路)级和U L S I(特大规模集成电路)级,可分为电子级,混合后气流连续流入扩散炉内环绕晶片四周纯氮气是半导体工业不可缺少的原料气和保护气 纯氩气在单晶硅的拉制,五氟化磷.掺杂工艺所用的气体掺杂源被称为掺杂气体,埋层等. 掺杂气体(Dopant Gases) 在半导体器件和集成电路制造中.主要包括砷烷.特殊材料气体主要用于外延,电阻,三氯化硼和乙硼烷等;高纯气体主要用作稀释气和运载气.按其门类可分为纯气.电子气体按纯度等级和使用场合,用来制造PN结,高纯气和半导体特殊材料气体三大类,掺杂和蚀刻工艺,半导体